您好,欢迎光临武汉贝纳科技服务有限公司
027-62435310 | service@benagen.com | 中文 | English 咨询客服
您现在的位置:主页 > 市场与支持 > 公司资讯 >

【CGM在线沙龙预告】胞嘧啶碱基编辑器脱靶检测技术的开发

编者荐语:

 

由贝纳基因赞助的CGM沙龙,此次为您带来北京大学的孟浩巍博士的分享

 

CGM将于北京时间 2022年01月06日 (星期四) 9.PM美国中部时间01月05日 7.AM举办在线沙龙活动。

 

本期活动,我们邀请到了来自北京大学浩巍博士带来题为“胞嘧啶碱基编辑器脱靶检测技术的开发”的分享

 

腾讯会议ID: 678-416-305

腾讯会议链接:https://meeting.tencent.com/dm/Gio2fKdBAB9q

 

嘉宾简介

图片

孟浩巍,本科毕业于西北农林科技大学创新实验学院;博士毕业于北京大学生命科学学院,获理学博士学位。博士期间曾获北京大学“优秀科研奖”,“北京大学优秀毕业生”等荣誉称号。博士毕业后,受北京大学“博雅博士后”项目资助,继续在北京大学生物医学工程方向进行博士后研究。

目前主要的研究方向和兴趣为多种基因编辑工具脱靶位点的检测及技术开发。胞嘧啶碱基编辑器(CBE),腺嘌呤碱基编辑器(ABE)以及先导编辑(prime editor,PE)等基因编辑工具可以在不产生DNA双链断裂的情况下对靶向DNA序列完成编辑。但是在全面推向临床应用前需要对其可能会产生的脱靶效应进行评估。目前的工作主要集中在开发可以高效、准确、无偏地评估上述基因编辑工具在全基因组水平的脱靶效应。我们的工作可能会对未来基因编辑工具的临床安全性评估及应用具有重要意义。

除学术工作外,持续在知乎网等网络平台上发布生物信息学相关技术图文教程,获得了超过7万3千人的关注,及超过900万人次的阅读量;还在哔哩哔哩、腾讯课堂、知乎等平台发布系列生物信息学教学课程,获得数十万人次的参与并广受好评。

 

内容摘要

胞嘧啶碱基编辑器(CBE),是一种可以在不产生DNA双链断裂的情况下靶向地将基因组DNA中的C突变为T的新型基因编辑工具。CBE的出现为众多遗传病的治疗带来了潜在的可能,但是在全面推向临床应用前需要对其可能会产生的脱靶效应进行评估。在CBE催化C脱氨最终转变为T的过程中会产生中间产物脱氧尿嘧啶(dU),因此可以通过检测dU从而获得CBE的脱靶位置。本研究开发了以检测CBE产生dU为目标,同时增加5fC化学标记及氧化为核心的全基因组CBE脱靶位点的测序技术——Detect-seq。应用Detect-seq技术,在人源HEK293TMCF7细胞系中的对6个靶向位点的样本中进行了CBE编辑的脱靶检测。除RNF2位点外,其它靶向位点均可以产生几十至数百个sgRNA依赖型的脱靶位点。同时,研究还发现了两种新型的sgRNA依赖型的脱靶编辑:前间隔序列外编辑(out-of-protospacer edit)及sgRNA靶向链编辑(target strand edit)。综上,本研究开发了一种可以在全基因组范围内检测CBE脱靶位点的测序技术Detect-seq。应用Detect-seq可以在细胞内高分辨率、灵敏、特异地检测的CBE编辑工具介导的脱靶位点,未来则可以为进一步优化、改造CBE提供可靠的评估手段。

 

关键词:genome editing, base editor, off-target, sequencing method, dU

 

参加方式

 

北京时间: 2022 年 01 月 06 日(星期四)9:00 PM

美中时间: 2022 年 01 月 05 日(星期三)7:00 AM

 

参与平台:Zoom及Youbube直播(关注:CGMonline)

 

加入腾讯会议:

https://meeting.tencent.com/dm/Gio2fKdBAB9q

腾讯会议ID:678-416-305

 

图片

扫描二维码

关注我们

CGM网站:cgmonline.co

YouTube:Chinese Genomics Meet-up

BilibiliCGMonline 欢迎三连!

腾讯视频:Cgmonline

微信群: 请添加微信好友wheatgenome,请务必注明"CGM+姓名单位"。

华人基因组学在线沙龙 (CGM),由几位在北美从事基因组学研究的青年华人学者于 2017 年 1 月份发起。旨在增进从事基因组学研究的华人之间的交流、学习和合作。欢迎从事分子生物学、遗传学、基因组学、生物信息学、生物统计学、进化生物学相关领域的华人同学(包括本、硕、博和博后)和老师参与。论坛每周一次,每次邀请一到两位学者就自己的研究课题进行学术汇报。汇报主要以中文的形式网络直播。

赞助伙伴

活动的举办离不开赞助伙伴的支持与鼓励,在此我们特别鸣谢:

图片


Copyright © 2018 武汉贝纳科技服务有限公司 . All Rights Reserved. Designed by 鄂ICP备13016520号-1技术支持:中网维优